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400-009-7767 項目簡介
在半導體化學、電子濕化學等領域的測試需求中，對物質基礎特性的監控逐步加強。海懷檢測擁有多臺先進設備，具備痕量金屬測試、痕量離子濃度測試等多項測試能力，深受廣大用戶好評。
檢測范圍
對半導體生產中的化學品進行金屬含量和離子濃度測試，如UPW、HF、HCL、HNO3、H2SO4、H3PO4、NH4OH、Wafer表面、wafer本體、BOE、SC1、SC2、DEV、H2O2、IPA、NMP等進行痕量分析(ppt level)。
常用檢測方法
電感耦合等離子體光譜/質譜 (ICP-AES/MS)、光電直讀光譜、無機碳硫測試、無機氧氮氫測試、離子色譜 (IC)、總有機碳 (TOC)、化學濕法、X射線熒光光譜 (XRF)、原子吸收光譜 (AAS)、水分測試、輝光放電光譜/質譜 (GD-OES/MS)、有機元素分析測試(EA)、原子熒光光譜 (AFS)等。
設備照片
| 電感耦合等離子體光譜/質譜 （ICP-AES/MS） |
離子色譜（IC） | 無機氧氮氫測試儀 | X射線熒光光譜（XRF） |
儀器設備
借助2000+大型儀器設備和豐富的處理方案，針對各行業研發分析中的難題，提供技術支撐和指導。
技術團隊
由20多名博士、100余名碩士組成的技術過硬、經驗豐富的技術團隊，具備科研檢測的核心競爭力。
定制化服務
根據客戶需求和行業通用標準，定制化測試方案，全程跟蹤測試情況。
能力全面
在華東、華中、華北、西北地區分別建有大型綜合檢測基地，具有行業頂尖的檢驗檢測分析實驗室。
